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整合性專案服務：協助螢光材料開發上之改良技術

技術說明

於螢光粉材料上之開發，結合噴墨式組合化學合成平台與光激發發光多點快速量測平台，先進行螢光材料之篩選，再配合陰極發光光譜儀(CL)、場發射掃描式電子顯微鏡(FE-SEM)、能量分散光譜儀(EDS)及 X-Ray 繞射分析儀(XRD)等分析，可快速得到更準確的螢光材料成份、晶相、微結構及光學特性等。

機台簡介

JEOL JSM-6500F / C L(Gatan MonoCL3 plus HSPMT)
  • JEOL JSM-6500F Gun：
    • Thermal Field Emission Gun (Schottky type)
  • Resolution：
    • 1.5 nm (at 15 KV),
    • 5.0 nm (at 1.0 KV) (SE Image)
  • Operation Voltage：
    • 0.5~30 KV；
    • Probe Current：200 nAMax
  • Specimen Stage：
    • X=70mm,
    • Y=50mm,
    • Z=23.5 mm (WD=3～41 mm)
    • Tilt=-5~70 degree,
    • R=360 degree
  • Max. Specimen Size：15mm (diameter) x 10 mm (height)
  • appendix：
    1. EDS system (Oxford X-MAX 80mm2)
    2. EBSD system (Oxford INCA Crystal 300)
    3. CL system (Gatan MonoCL3 plus HSPMT)


  • C L(Gatan MonoCL3 plus HSPMT)
    • 能譜偵測範圍 160nm~930nm, 800nm~1800nm
XRD(X-RAY Generator (PW-1830/40)) / EDS(Oxford X-MAX 80mm2)
  • XRD(X-RAY Generator (PW-1830/40))
    • 3kW, 60kV, 60mA


  • EDS(Oxford X-MAX 80mm2)
    • 偵測範圍 原子序5以上
    • 能量解析度 Mn Ka<133eV

應用成果

高通量平行合成平台製備之鋁酸鹽螢光體之分析。

螢光材料~CL光譜、影像、缺陷分析
螢光材料~CL光譜、影像、缺陷分析
以EDS測未發光區的主要雜相成份，含有 Mg、Al、O 及含 O、Al、Eu成份；兩者於 480 nm 處發光區以 EDS 分析後，得到的成份均以含 O，Mg，Al及Eu的組成為主，以XRD鑑定後其晶相即為 EuMgAl10O17。
以EDS測未發光區的主要雜相成份，含有 Mg、Al、O 及含 O、Al、Eu成份；兩者於 480 nm 處發光區以 EDS 分析後，得到的成份均以含 O，Mg，Al及Eu的組成為主，以XRD鑑定後其晶相即為 EuMgAl10O17。