快速EM檢測服務(SEM,TEM,FIB)：SEM快速檢測技術(SDD EDS,EBSD,CL)
技術說明
一般金屬、陶瓷、半導體、高分子等材料領域之微觀組織、定性、半定量分析、結晶取向、晶粒、晶界分析、發光特性研究。奈米材料、奈米元件之形貌、結構分析。IC半導體、封裝、光碟、LED等光電相關產業之破壞、故障分析等。
機台簡介
JEOL JSM-6500F / C L(Gatan MonoCL3 plus HSPMT)
- JEOL JSM-6500F Gun：
- Thermal Field Emission Gun (Schottky type)
- Resolution：
- 1.5 nm (at 15 KV),
- 5.0 nm (at 1.0 KV) (SE Image)
- Operation Voltage：
- 0.5~30 KV；
- Probe Current：200 nAMax
- Specimen Stage：
- X=70mm,
- Y=50mm,
- Z=23.5 mm (WD=3～41 mm)
- Tilt=-5~70 degree,
- R=360 degree
- Max. Specimen Size：15mm (diameter) x 10 mm (height)
- appendix：
- EDS system (Oxford X-MAX 80mm2)
- EBSD system (Oxford INCA Crystal 300)
- CL system (Gatan MonoCL3 plus HSPMT)
- C L(Gatan MonoCL3 plus HSPMT)
- 能譜偵測範圍 160nm~930nm, 800nm~1800nm
應用成果
